ਵਰਣਨ
ਸਾਡੀ ਕੰਪਨੀ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਦੀ ਹੈSiC ਪਰਤਗ੍ਰੇਫਾਈਟ, ਵਸਰਾਵਿਕਸ ਅਤੇ ਹੋਰ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ CVD ਵਿਧੀ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਸੇਵਾਵਾਂ, ਤਾਂ ਜੋ ਕਾਰਬਨ ਅਤੇ ਸਿਲੀਕਾਨ ਵਾਲੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ ਗੈਸਾਂ ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ 'ਤੇ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਕਰਨ ਵਾਲੀਆਂ SiC ਅਣੂਆਂ, ਕੋਟੇਡ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਜਮ੍ਹਾ ਅਣੂ, ਇੱਕ ਬਣਾਉਂਦੀਆਂ ਹਨ।SiC ਸੁਰੱਖਿਆ ਪਰਤ.
ਮੁੱਖ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ
1. ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਆਕਸੀਕਰਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ:
ਜਦੋਂ ਤਾਪਮਾਨ 1600 ਡਿਗਰੀ ਸੈਲਸੀਅਸ ਤੱਕ ਉੱਚਾ ਹੁੰਦਾ ਹੈ ਤਾਂ ਆਕਸੀਕਰਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਅਜੇ ਵੀ ਬਹੁਤ ਵਧੀਆ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।
2. ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ: ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਕਲੋਰੀਨੇਸ਼ਨ ਸਥਿਤੀ ਦੇ ਤਹਿਤ ਰਸਾਇਣਕ ਭਾਫ਼ ਜਮ੍ਹਾ ਦੁਆਰਾ ਕੀਤੀ ਗਈ।
3. ਕਟੌਤੀ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ: ਉੱਚ ਕਠੋਰਤਾ, ਸੰਖੇਪ ਸਤਹ, ਵਧੀਆ ਕਣ.
4. ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ: ਐਸਿਡ, ਖਾਰੀ, ਨਮਕ ਅਤੇ ਜੈਵਿਕ ਰੀਐਜੈਂਟਸ।
CVD-SIC ਕੋਟਿੰਗ ਦੀਆਂ ਮੁੱਖ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ
| SiC-CVD ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ | ||
| ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਬਣਤਰ | FCC β ਪੜਾਅ | |
| ਘਣਤਾ | g/cm ³ | 3.21 |
| ਕਠੋਰਤਾ | ਵਿਕਰਾਂ ਦੀ ਕਠੋਰਤਾ | 2500 |
| ਅਨਾਜ ਦਾ ਆਕਾਰ | μm | 2~10 |
| ਰਸਾਇਣਕ ਸ਼ੁੱਧਤਾ | % | 99.99995 |
| ਗਰਮੀ ਦੀ ਸਮਰੱਥਾ | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| ਉੱਤਮਤਾ ਦਾ ਤਾਪਮਾਨ | ℃ | 2700 ਹੈ |
| Felexural ਤਾਕਤ | MPa (RT 4-ਪੁਆਇੰਟ) | 415 |
| ਯੰਗ ਦਾ ਮਾਡਿਊਲਸ | Gpa (4pt ਮੋੜ, 1300℃) | 430 |
| ਥਰਮਲ ਵਿਸਥਾਰ (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| ਥਰਮਲ ਚਾਲਕਤਾ | (W/mK) | 300 |
ਉਪਕਰਨ
